電鍍時(shí)，基體不銹鋼屏風(fēng)和不銹鋼屏風(fēng)鍍層之間常因存在非不銹鋼的夾層而不能形成連續的結晶結構，造成鍍層起泡或脫落等結合不良的缺陷。因此，必須清除氧化皮、銹及氧化物等變質(zhì)層。雖然加工層，鍍層能夠與之牢固地結合，因而無(wú)需用浸蝕法加以清除，一般只需進(jìn)行酸洗處理。屏風(fēng)材料存放于空氣中，即使是很短時(shí)間，彌散在空氣中的灰塵或油脂等微粒，也會(huì )粘附在表面上而形成污物層。污物主要分兩大類(lèi)，一類(lèi)是無(wú)機污物，包括磨料顆粒、空氣中的沙塵及不銹鋼屏風(fēng)粉末等。

極限真空度：（單位：P：在規定條件工作，在不引入氣體正常工作的情況下，趨向平穩的低壓強。一：靶面金屬化合物的形成。由金屬靶面通過(guò)反應濺射工藝形成化合物的過(guò)程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應生成化合物原子，通常是放熱反應，反應生成熱必須有傳導出去的途徑，否則，該化學(xué)反應無(wú)法繼續進(jìn)行。在真空條件下氣體之間不可能進(jìn)行熱傳導，所以，化學(xué)反應必須在一個(gè)固體表面進(jìn)行。反應濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結構表面進(jìn)行。

真空鍍膜技術(shù)一般分為物理液相堆積(PVD)技術(shù)和有機化學(xué)液相堆積(有機化學(xué)液相堆積)技術(shù)兩類(lèi)。物理學(xué)液相堆積技術(shù)是指在真空泵標準下用各種物理方法將電鍍材料揮發(fā)成分子、分子結構或弱電解質(zhì)成正離子，立即堆積在基礎表層的方式。硬反映膜主要基于物理學(xué)液體的堆積。利用化學(xué)物質(zhì)的熱揮發(fā)和離子轟擊分子在化學(xué)物質(zhì)表層的磁控濺射等物理學(xué)全過(guò)程，完成化學(xué)物質(zhì)分子從源化學(xué)物質(zhì)到塑料薄膜的控制轉移全過(guò)程。物理學(xué)液相堆積技術(shù)具有薄膜/底材結合性好、塑料薄膜均勻高密度均勻、塑料薄膜厚度可控性好、運用目標廣、磁控濺射復蓋面廣、塑料薄膜堆積厚、鋁合金塑料薄膜平穩、可重復性好的優(yōu)點(diǎn)。有機化學(xué)液相堆積技術(shù)是將塑料薄膜的原素蒸汽和原素的化學(xué)物質(zhì)展示在基礎上，根據液相效果和基礎表層的化學(xué)變化，在基礎上制作金屬材料和化學(xué)物質(zhì)塑料薄膜的方式。